マスクレス露光装置 Maskless Lithography

マスクレス露光装置 Maskless Lithography
ナノソリューションズ/DL-1000
CADで作画したパターンデータを、フォトマスクを用いることなく直接基板上のフォトレジストに露光できます。また、グレースケール露光によりレジストの三次元加工も可能です。露光光源は波長405nmのLEDで試料サイズは数mm四方~5インチウェハーまで対応。最小画素1μm。
Pattern data created with CAD can be used to expose photoresist directly on the substrate without using a photomask. Furthermore, three dimensional processing of the resist is possible using grayscale exposure. The exposure light source is LED with a wavelength of 405 nm, and sample sizes from several millimeters square to 5-inch wafers are supported. The smallest pixel is 1 μm.
Comments